抛光垫

        抛光垫   抛光垫又称抛光皮，抛光布，抛光片，化学机械抛光中决定表面质量的重要辅料。     中文名抛光垫外文名Polishing pad, Polishing cloth按是否有磨料分为有磨料抛光垫和无磨料抛光垫按表面结构平面型、网格型和螺旋线型   分类   按是否含有磨料可以分为有磨料抛光垫和无磨料抛光垫; 按材质的不同可以分为聚氨酯抛光垫、无纺布抛光垫和复合型抛光垫; 按表面结构的不同大致可分为平面型、网格型和螺旋线型。 作用
  ①把抛光液有效均匀地输送到抛光垫的不同区域； ②将抛光后便化学反应充分进行;的反应物、碎屑等顺利排出，达到去除效果； ③维持抛光垫表面的抛光液薄膜, 以便化学反应充分进行； ④保持抛光过程的平稳、表面不变形, 以便获得较好的晶片表面形貌； 影响因素
  ①硬度-抛光垫的硬度决定保持面形精度的能力； ②压缩比-压缩比反应抛光垫的抗变形能力； ③涵养量-抛光垫的涵养量是单位体积的抛光垫存储抛光液的质量； ④粗糙度-表面粗糙度是抛光垫表面的凸凹不平程度,； ⑤密度-密度是抛光垫材料的致密程度；