产品用途
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。
产品组成
PECVD系统配置；
1.1200度开启式滑动单温区真空管式炉
2.等离子射频电源
3.多路质量流量控制系统
4.真空系统（单独购买）
产品特点
电源范围广；温度范围宽；溅射区域长；整管可调；精致小巧，，可实现快速升降温，是实验室生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等的理想选择，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。
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系统名称 |
集成型PECVD系统 |
1200℃小型PECVD系统 |
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系统型号 |
PECVD-12IH-500A |
PECVD-12IH-4Z/G |
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控制方式 |
液晶屏微PLC控制系统 |
手动 |
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高温度 |
1200℃ |
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加热区长度 |
200mm |
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恒温区长度 |
100mm |
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温区 |
单温区 |
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石英管管径 |
Φ60mm |
Φ50mm |
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额定功率 |
1.2Kw |
2Kw |
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额定电压 |
220V |
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滑动方式及距离 |
自动滑动;200mm |
手动滑动;200mm |
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温度控制 |
30段程序控温 |
50段程序控温 |
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控制精度 |
&plun;1℃ |
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炉管高工作温度 |
＜1200℃ |
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气路法兰 |
采用多环密封技术卡箍快速连接 |
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排风装置 |
先进的空气隔热技术，结合热感应技术，当炉体表面温升到50℃时， 排温风扇将自动启动，使炉体表面快速降温。 |
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气体控制方式 |
质量流量计（按键式） |
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气路数量 |
2路（2-4路） |
4路（可根据具体需要选配气路数量） |
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流量范围 |
0-500sccm(标准毫升/分，可选配）氮气标定 |
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精度 |
&plun;1%F.S |
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响应时间 |
1sec |
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工作温度（流量计） |
20-120℃ |
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工作压力 |
进气压力0.05-0.3Mpa(表压力） |
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进气方式 |
采用防倒流设计 |
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规格 |
中真空（集成型请单独购买） |
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系统真空范围 |
10Pa-100Pa |
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联系人：黄女士
电话：022-26980130
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邮箱： ctjzh2828@126.com
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